北京大学刘忠范课题组与彭海琳教授课题组合作–含铜碳原料用于生长超洁净石墨烯

化学气相沉积(CVD)可以大规模生长高质量的石墨烯薄膜,并在石墨烯的工业生产中显示出可观的潜力。但是,CVD生长的石墨烯薄膜含有表面污染物,这将阻碍其潜在的应用,例如,在电气和光电设备以及基于石墨烯膜的应用中。为了解决这个问题,我们展示了一种改良的气相反应,利用含金属的分子醋酸铜(II),铜(OAc)2作为碳源,实现了无污染石墨烯膜即超净石墨烯的大规模生长。在高温CVD期间,含Cu的碳源显著增加了…